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2021-2025年中國光刻機行業深度調研及投資前景預測報告

首次出版:2021年6月最新修訂:2021年6月交付方式:特快專遞(2-3天送達)

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十四五將是中國技術和產業升級的關鍵期,重點機會有哪些?
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報告目錄內容概述 定制報告

第一章 光刻機行業相關概述
1.1 光刻機的基本介紹
1.1.1 概念界定
1.1.2 構成結構
1.1.3 工作原理
1.1.4 工藝步驟
1.1.5 基本特點
1.2 光刻機的性能指標
1.2.1 分辨率
1.2.2 物鏡鏡頭
1.2.3 光源波長
1.2.4 曝光方式
1.2.5 套刻精度
1.2.6 工藝節點
1.3 光刻機的演變及分類
1.3.1 摩爾定律
1.3.2 光刻機的演變
1.3.3 光刻機的分類
第二章 2019-2021年國際光刻機行業發展分析
2.1 光刻機行業產業鏈分析
2.1.1 光刻機產業鏈基本構成
2.1.2 光刻機產業鏈上游分析
2.1.3 光刻機產業鏈中游分析
2.1.4 光刻機產業鏈下游分析
2.2 全球光刻機行業發展綜述
2.2.1 發展環境分析
2.2.2 產業發展歷程
2.2.3 市場發展規模
2.2.4 市場競爭格局
2.2.5 供需關系分析
2.2.6 價格變化態勢
2.3 全球光刻機細分市場分析
2.3.1 細分產品結構
2.3.2 i-line光刻機
2.3.3 KrF光刻機
2.3.4 ArF光刻機
2.3.5 ArFi光刻機
2.3.6 EUV光刻機
2.4 全球光刻機重點企業運營情況:ASML
2.4.1 企業發展概況
2.4.2 企業發展歷程
2.4.3 產業的生態鏈
2.4.4 創新股權結構
2.4.5 經營狀況分析
2.4.6 產品結構分析
2.4.7 光刻產品布局
2.4.8 技術研發現狀
2.4.9 企業戰略分析
2.5 全球光刻機重點企業運營情況:Canon
2.5.1 企業發展概況
2.5.2 經營狀況分析
2.5.3 企業業務分析
2.5.4 現有光刻產品
2.5.5 技術研發現狀
2.6 全球光刻機重點企業運營情況:Nikon
2.6.1 企業發展概況
2.6.2 經營狀況分析
2.6.3 企業業務結構
2.6.4 企業光刻產品
2.6.5 光刻技術研發
2.6.6 光刻業務面臨挑戰
第三章 2019-2021年中國光刻機行業政策環境分析
3.1 中國半導體產業政策分析
3.1.1 歷史政策梳理
3.1.2 重點政策分析
3.1.3 中外政策對比
3.2 中國半導體行業政策主要變化
3.2.1 規劃目標的變化
3.2.2 發展側重點變化
3.2.3 財稅政策的變化
3.2.4 扶持主體標準變化
3.3 中國光刻機行業相關支持政策
3.3.1 產業重要政策
3.3.2 補貼基礎設施
3.3.3 扶持配套材料
3.3.4 完善產業環境
第四章 2019-2021年中國光刻機行業發展環境分析
4.1 中美科技戰影響分析
4.1.1 《瓦森納協定》解讀
4.1.2 美方對華發動科技戰原因
4.1.3 美對中科技主要制裁措施
4.1.4 中美科技領域摩擦的影響
4.2 經濟環境分析
4.2.1 宏觀經濟概況
4.2.2 對外經濟分析
4.2.3 工業經濟運行
4.2.4 宏觀經濟展望
4.3 投融資環境分析
4.3.1 半導體行業資金來源
4.3.2 大基金一期完成情況
4.3.3 大基金一期投向企業
4.3.4 大基金二期實行現狀
4.3.5 各省市資金扶持情況
4.4 人才需求環境分析
4.4.1 中國人才需求現狀概況
4.4.2 人才與薪酬呈現雙增長
4.4.3 制造行業人才供需失衡
4.4.4 高端創新領域人才緊缺
4.4.5 人才培養機制暫不健全
第五章 2019-2021年中國光刻機行業發展綜況
5.1 中國光刻機行業發展綜述
5.1.1 行業發展背景
5.1.2 行業發展歷程
5.1.3 行業發展現狀
5.1.4 產業上游分析
5.1.5 產業下游分析
5.2 中國光刻機行業運行狀況
5.2.1 行業驅動因素
5.2.2 企業區域分布
5.2.3 國內采購需求
5.2.4 國產供給業態
5.2.5 行業投融資情況
5.3 2019-2021年中國光刻機進出口數據分析
5.3.1 進出口總量數據分析
5.3.2 主要貿易國進出口情況分析
5.3.3 主要省市進出口情況分析
5.4 中國光刻機行業發展問題
5.4.1 主要問題分析
5.4.2 產業發展挑戰
5.4.3 行業發展痛點
5.4.4 行業發展風險
5.5 中國光刻機行業發展對策
5.5.1 增加科研投入
5.5.2 加快技術突破
5.5.3 加強人才積累
第六章 2018-2021年光刻機產業鏈上游分析
6.1 光刻核心組件重點行業發展分析
6.1.1 雙工作臺
6.1.2 光源系統
6.1.3 物鏡系統
6.2 光刻配套設施重要行業發展分析
6.2.1 光刻氣體
6.2.2 光掩膜版
6.2.3 缺陷檢測
6.2.4 涂膠顯影
6.3 光刻核心組件重點企業解析
6.3.1 雙工作臺:華卓精科
6.3.2 浸沒系統:啟爾機電
6.3.3 曝光系統:國科精密
6.3.4 光源系統:科益虹源
6.3.5 物鏡系統:國望光學
6.4 光刻配套設施重點企業解析
6.4.1 配套光刻氣:華特氣體、凱美特氣
6.4.2 光掩膜版:清溢光電、菲利華
6.4.3 缺陷檢測:東方晶源
6.4.4 涂膠顯影:芯源微
第七章 2019-2021年光刻機上游——光刻膠行業分析
7.1 光刻膠行業發展綜述
7.1.1 光刻膠的定義
7.1.2 光刻膠的分類
7.1.3 光刻膠重要性
7.1.4 技術發展趨勢
7.2 全球光刻膠行業發展
7.2.1 光刻膠產業鏈
7.2.2 行業發展歷程
7.2.3 市場發展現狀
7.2.4 細分市場分析
7.3 中國光刻膠企業發展
7.3.1 國產市場現狀
7.3.2 行業發展規模
7.3.3 企業布局分析
7.4 國產光刻膠重點企業運營情況
7.4.1 江蘇南大光電材料股份有限公司
7.4.2 蘇州晶瑞化學股份有限公司
7.4.3 江蘇雅克科技股份有限公司
7.4.4 深圳市容大感光科技股份有限公司
7.4.5 上海新陽半導體材料股份有限公司
7.4.6 北京科華微電子材料有限公司
第八章 2018-2021年光刻機產業鏈下游應用分析
8.1 芯片領域
8.1.1 芯片相關概念
8.1.2 芯片制程工藝
8.1.3 行業運營模式
8.1.4 芯片產品分類
8.1.5 行業發展現狀
8.1.6 行業產量規模
8.1.7 產業結構分布
8.2 芯片封裝測試領域
8.2.1 封裝測試概念
8.2.2 市場規模分析
8.2.3 市場競爭格局
8.2.4 國內重點企業
8.2.5 封測技術發展
8.2.6 行業發展趨勢
8.3 LED領域
8.3.1 LED行業概念
8.3.2 行業產業鏈條
8.3.3 產業市場規模
8.3.4 全球競爭格局
8.3.5 應用領域分析
8.3.6 行業發展趨勢
第九章 2019-2021年光刻機行業技術發展分析
9.1 全球光刻技術發展綜述
9.1.1 全球技術演進階段
9.1.2 全球技術發展瓶頸
9.1.3 全球技術發展方向
9.2 中國光刻技術發展態勢
9.2.1 中國研發進展分析
9.2.2 國內技術研發狀況
9.2.3 中國發展技術問題
9.2.4 國內技術研究方向
9.3 光刻機行業專利技術狀況
9.3.1 數據來源分析及介紹
9.3.2 專利申請趨勢分析
9.3.3 技術產出區域分析
9.4 光刻機重點技術分析
9.4.1 接觸接近式光刻技術
9.4.2 投影式光刻技術
9.4.3 步進式光刻技術
9.4.4 雙工作臺技術
9.4.5 雙重圖案技術
9.4.6 多重圖案技術
9.4.7 浸沒式光刻機技術
9.4.8 極紫外光刻技術
9.5 “02專項”項目分析
9.5.1 “02專項”項目概述
9.5.2 “光刻機雙工件臺系統樣機研發”項目
9.5.3 “極紫外光刻關鍵技術研究”項目
9.5.4 “超分辨光刻裝備研制”項目
第十章 2019-2021年中國光刻機標桿企業運營分析
10.1 上海微電子裝備(集團)股份有限公司
10.1.1 企業發展概況
10.1.2 產品業務分析
10.1.3 經營情況分析
10.1.4 企業競爭劣勢
10.1.5 企業股權結構
10.1.6 技術研究分析
10.2 合肥芯碩半導體有限公司
10.2.1 企業發展概況
10.2.2 企業發展歷程
10.2.3 產品結構分析
10.2.4 技術研發分析
10.2.5 核心競爭力
10.3 無錫影速半導體科技有限公司
10.3.1 企業發展概況
10.3.2 企業股權結構
10.3.3 產品結構分析
10.3.4 技術研發分析
10.4 北京半導體專用設備研究所
10.4.1 企業發展概況
10.4.2 企業客戶構成
10.4.3 產品結構分析
10.4.4 技術研發分析
10.4.5 核心競爭力分析
10.5 成都晶普科技有限公司
10.5.1 企業發展概況
10.5.2 業務經營分析
10.5.3 技術研發分析
10.5.4 核心競爭力分析
第十一章 2019-2021年中國光刻機市場前景分析
11.1 光刻機行業發展前景
11.1.1 全球產品發展趨勢
11.1.2 全球應用場景趨勢
11.1.3 中國技術發展機遇
11.1.4 中國市場需求機遇
11.2 “十四五”時期光刻機行業發展展望
11.2.1 先進制程推進加快光刻機需求
11.2.2 材料設備發展加速產業鏈完善
11.3 2021-2025年中國光刻機行業預測分析
11.3.1 2021-2025年中國光刻機行業影響因素
11.3.2 2021-2025年中國光刻機行業銷售規模預測

圖表目錄

圖表 光刻機結構
圖表 光刻機組成部分及作用
圖表 光刻機工作原理
圖表 正性光刻和負性光刻
圖表 光刻工藝流程圖
圖表 IC制造工序
圖表 產線中晶圓制造設備投資額占比
圖表 光刻機光源類型
圖表 接觸式曝光分類
圖表 投影式曝光分類
圖表 各個工藝節點和工藝及光刻機類型的關系圖
圖表 光刻機演變歷程
圖表 EUV光刻機發展規劃路徑
圖表 接近接觸式光刻分類
圖表 光刻機分類
圖表 光刻機產業鏈
圖表 光刻機組成結構及特點
圖表 光刻機上下游市場產業鏈及關鍵企業
圖表 全球光刻機市場除ASML、Canon、Nikon規模以上企業
圖表 2020年光刻機前三出貨情況
圖表 2020年全球光刻機企業市場份額占比
圖表 2015-2020年光刻機歷年競爭格局(按銷量)
圖表 2015-2020年光刻機三大供應商歷年銷量
圖表 2016-2020年光刻機三大供應商的歷年全球銷售額
圖表 2019-2021年全球晶圓廠設備(前端)開支預測
圖表 不同晶圓制造產線所需光刻機數量
圖表 2019年-2020年ASML在中國銷售情況
圖表 1960-2020年IC前道光刻機價格變化
圖表 2020年光刻機全球市場的產品結構(銷量)
圖表 2020年光刻機全球市場的產品結構(金額)
圖表 2015-2020年光刻機各類產品銷量
圖表 2015-2020年各類光刻機產品全球銷售額
圖表 前三大光刻機企業i-line產品
圖表 2017-2020年i-line光刻機銷量
圖表 前三大光刻機企業KrF產品
圖表 2017-2020年KrF光刻機銷量
圖表 前三大光刻機企業ArF產品
圖表 2017-2020年ArF光刻機銷量
圖表 前三大光刻機企業ArFi產品
圖表 2017-2020年ArFi光刻機銷量
圖表 ASML EUV產品
圖表 2017-2020年EUV光刻機銷量
圖表 2011-2021年EUV光刻機銷售及增速
圖表 2011-2020年EUV光刻機單價變動
圖表 2000之前為ASML快速增長期
圖表 1999年ASML區域市場收入占比
圖表 浸沒式系統幫助ASML毛利率與凈利率提升
圖表 ASML收購打通EUV產業鏈
圖表 ASML產業鏈企業分布
圖表 ASML主要上游供應商
圖表 2017-2018年ASML綜合收益表
圖表 2017-2018年ASML分部資料
圖表 2017-2018年ASML收入分地區資料
圖表 2018-2019年ASML綜合收益表
圖表 2018-2019年ASML分部資料
圖表 2018-2019年ASML收入分地區資料
圖表 2019-2020年ASML綜合收益表
圖表 2019-2020年ASML分部資料
圖表 2019-2020年ASML收入分地區資料
圖表 ASML2020年光刻機銷售收入按產品拆分
圖表 ASML2020年光刻機銷售凈利潤按地區拆分
圖表 ASML2018年-2020年光刻機收入按下游應用拆分
圖表 2017-2018年CANON綜合收益表
圖表 2017-2018年CANON分部資料
圖表 2017-2018年CANON收入分地區資料
圖表 2018-2019年CANON綜合收益表
圖表 2018-2019年CANON分部資料
圖表 2018-2019年CANON收入分地區資料
圖表 2019-2020年CANON綜合收益表
圖表 2019-2020年CANON分部資料
圖表 2019-2020年CANON收入分地區資料
圖表 Canon現有光刻機產品
圖表 佳能2016-2020年光刻機設備出貨量情況
圖表 佳能2017-2020年光刻機設備營收
圖表 光刻工藝與納米壓印光刻對比
圖表 尼康發展歷程
圖表 2017-2018年NIKON綜合收益表
圖表 2017-2018年NIKON分部資料
圖表 2017-2018年NIKON收入分地區資料
圖表 2018-2019年NIKON綜合收益表
圖表 2018-2019年NIKON分部資料
圖表 2018-2019年NIKON收入分地區資料
圖表 2019-2020年NIKON綜合收益表
圖表 2019-2020年NIKON分部資料
圖表 2019-2020年NIKON收入分地區資料
圖表 尼康2020年營收產品結構
圖表 2017-2020年尼康光刻機出貨量
圖表 2017-2020年尼康半導體光刻機出貨量
圖表 2020年尼康光刻機產品出貨情況
圖表 NSR-S635E性能參數
圖表 NSR-S622D性能參數
圖表 NSR-S622D性能參數
圖表 NSR-S622D性能參數
圖表 NSR-S622D性能參數
圖表 尼康2016-2020年研發支出情況
圖表 尼康平板顯示器的制造工藝以及FPD曝光裝置
圖表 半導體產業歷史上重要支持政策
圖表 中外扶持政策對比
圖表 《國家集成電路產業發展推進綱要(2014)》規劃目標
圖表 集成電路政策規劃目標變化歷程
圖表 集成電路產業政策扶持重點變化歷程
圖表 《新時期促進集成電路產業和軟件產業高質量發展的若干政策》舊財稅政策變化
圖表 《新時期促進集成電路產業和軟件產業高質量發展的若干政策》新增財稅政策
圖表 集成電路財稅政策變化歷程
圖表 集成電路政策扶持企業變化歷程
圖表 光刻機產業歷史上重要支持政策
圖表 協議中針對軍民兩用產品和技術控制清單
圖表 瓦森納對中技術管控升級
圖表 2013-2019年中國科研經費投入
圖表 2014-2018年高科技技術進出口總額及市場成交額
圖表 2020年專利申請數量前六國家
圖表 美對中科技制裁歷程
圖表 2015-2019年國內生產總值及其增長速度
圖表 2015-2019年三次產業增加值占國內生產總值比重
圖表 2020年4季度和全年GDP初步核算數據
圖表 2015-2020年GDP同比增長速度
圖表 2015-2020年GDP環比增長速度
圖表 2015-2019年貨物進出口總額
圖表 2019年貨物進出口總額及其增長速度
圖表 2019年主要商品出口數量、金額及其增長速度
圖表 2019年主要商品進口數量、金額及其增長速度
圖表 2019年對主要國家和地區貨物進出口金額、增長速度及其比重
圖表 2015-2019年全部工業增加值及其增長速度
圖表 2019年主要工業產品產量及其增長速度
圖表 2019-2020年中國規模以上工業增加值同比增長速度
圖表 2020年規模以上工業生產主要數據
圖表 行業資本來源
圖表 大基金一期、二期政策對比
圖表 大基金一期產業鏈的投資額占比
圖表 大基金一期產業鏈的投資額
圖表 大基金一期資金流向
圖表 大基金二期投資流向
圖表 大基金推動產業發展側重點
圖表 大基金二期目前已投企業梳理
圖表 中國主要地方集成電路產業基金規模
圖表 2019-2020年中國半導體行業薪資同比增長率變化情況
圖表 2019-2020年調研企業人才需求占比情況
圖表 2019年全球部分國家和地區吸引和留住人才情況
圖表 2018和2019年集成電路產業鏈從業人員主動離職率
圖表 中國光刻機產業發展歷程
圖表 中國光刻機企業工藝節點進程
圖表 國產光刻機上游產業鏈
圖表 國產光刻產業鏈布局
圖表 國產光刻產業鏈技術進展
圖表 光刻機應用場景
圖表 中國光刻機企業地區分布
圖表 產線中晶圓制造設備投資額占比
圖表 2020年-2021年中國大陸光刻機采購情況
圖表 光刻機企業性質
圖表 2019-2021年中國光刻機進出口總額
圖表 2019-2021年中國光刻機進出口結構
圖表 2019-2021年中國光刻機貿易順差規模
圖表 2019-2020年中國光刻機進口區域分布
圖表 2019-2020年中國光刻機進口市場集中度(分國家)
圖表 2020年主要貿易國光刻機組進口市場情況
圖表 2021年主要貿易國中國光刻機進口市場情況
圖表 2019-2020年中國光刻機出口區域分布
圖表 2019-2020年中國光刻機出口市場集中度(分國家)
圖表 2020年主要貿易國中國光刻機出口市場情況
圖表 2021年主要貿易國中國光刻機出口市場情況
圖表 2019-2020年主要省市光刻機進口市場集中度(分省市)
圖表 2020年主要省市光刻機進口情況
圖表 2021年主要省市光刻機進口情況
圖表 2019-2020年中國光刻機出口市場集中度(分省市)
圖表 2020年主要省市光刻機出口情況
圖表 2021年主要省市光刻機出口情況
圖表 國內外半導體設備企業研發階段
圖表 2019年-2020年ASML財務報表
圖表 2018-2019年美對中技術限制事件
圖表 2015年-2019年全球激光器銷售情況
圖表 2015年-2018年全球準分子激光器銷售情況
圖表 2014-2019年全球光學鏡頭市場規模
圖表 2014-2019年中國光學鏡頭市場規模
圖表 2018-2019年全球電子特氣市場規模
圖表 2019年電子特氣下游應用比例
圖表 2020年-2025年芯片用電子特氣市場規模預測
圖表 2015年-2019年中國電子特氣市場規模及增速
圖表 光刻氣體種類
圖表 2020年中國大陸電子氣體市場占比
圖表 2014-2019年國內光刻氣發展情況
圖表 行業內主要企業
圖表 掩膜版行業格局
圖表 全球各大廠商可供應的高端產品情況
圖表 國內掩模版市場格局
圖表 2016-2019年中國全球半導體設備市場規模
圖表 2016-2019年中國半導體檢測設備市場規模
圖表 2018年全球涂膠顯影市場
圖表 2018年國內涂膠顯影設備市場格局
圖表 涂膠顯影設備InLine是未來趨勢
圖表 公司發展歷史
圖表 華卓精科主營業務&產品
圖表 硅片臺雙臺交換系統參數性能
圖表 啟爾電機企業發展歷程
圖表 啟爾電機浸沒式系統研究總體方案
圖表 EpolithA075型參數
圖表 科益虹源股權結構圖
圖表 科益虹源企業發展歷程
圖表 國望光學股權圖
圖表 凱美特氣主要產品及應用
圖表 2017-2020年凱美特氣營收情況
圖表 清溢光電產品介紹
圖表 清溢光電歷史大事記
圖表 國內外主要光罩廠商產品供應情況
圖表 菲利華光掩膜版客戶端鏈條
圖表 SEpAI新型CD-SEM/EDS
圖表 2017-2020年芯源微營收情況
圖表 2017-2020年芯源微凈利率情況
圖表 光刻膠按顯示效果分類
圖表 光刻膠應用制程及分類
圖表 光刻膠的主要技術參數
圖表 光的特性限制了光刻的極限分辨率
圖表 光刻膠成分及作用
圖表 光刻膠下游對應產品類型
圖表 光刻膠上下游產業鏈
圖表 光刻膠的發展歷程
圖表 2010-2022年全球光刻膠市場規模及預測
圖表 2019年光刻膠廠商市場占比
圖表 全球主要光刻膠企業量產與研發節點
圖表 2019年全球光刻膠市場結構
圖表 2019年g/i線光刻膠市場格局
圖表 2019年ArF光刻膠市場格局
圖表 2019年KrF光刻膠市場格局
圖表 2019年國產光刻膠產業結構
圖表 2015-2020年國內光刻膠市場規模
圖表 2010-2019年國內光刻膠市場規模
圖表 企業在不同光刻膠產品的布局
圖表 國內外主要光刻膠廠量產對比
圖表 容大感光光刻膠產品
圖表 北京科華微電子設備與管理體系
圖表 各類制程主要芯片及下游應用
圖表 主要晶圓代工廠不同進程芯片量產時間
圖表 芯片按功能劃分
圖表 2015-2020年中國集成電路產量統計及增長情況
圖表 2019年中國集成電路產量區域分布
圖表 2011-2019年全球芯片封測市場規模
圖表 2012-2019年中國封測市場銷售額
圖表 2020年第三季度全球封測廠排名
圖表 2019年主要封測企業先進封裝技術布局對比
圖表 四階段封裝技術發展
圖表 2014-2025年全球IC先進封裝市占率預測
圖表 小間距LED、MiniLED、MicroLED對比
圖表 2011-2018年全球LED產業市場規模
圖表 2006-2019年中國LED產業市場規模
圖表 全球LED行業市場區域競爭格局
圖表 2010-2019年我國LED產業市場規模
圖表 光刻機歷代工藝
圖表 光譜
圖表 中國光刻機現有產品
圖表 中國光刻技術面臨的困難與挑戰
圖表 單位晶體管成本
圖表 2018、2019年中國光刻機專利申請情況
圖表 2000-2018年光刻機全球申請量趨勢
圖表 2000-2018年光刻機專利申請地域分布圖
圖表 光刻機重點申請人申請量排名
圖表 2008-2018年EUV重點申請人申請量排名
圖表 早期接觸接近式光刻技術
圖表 步進式投影示意圖
圖表 普通光刻技術(正性光刻)
圖表 雙重圖案技術
圖表 雙重圖案技術中的自對準間隔技術
圖表 自對準間隔技術的四重圖案化
圖表 45nm制程下一代光刻技術兩種發展軌跡
圖表 浸沒式光刻機與傳統光刻技術對比
圖表 EUV與ArFi工藝對比
圖表 EUV技術難點與解決措施
圖表 “02專項”目標
圖表 “02專項”部分參與單位
圖表 第五代光刻機光源
圖表 EUV研發的五大難題問題類型
圖表 超分辨光刻機研制的意義
圖表 上海微電子發展歷程
圖表 SMEE主營產品分類
圖表 600系列光刻機分類
圖表 500系列光刻機分類
圖表 300系列光刻機分類
圖表 600系列光刻機分類
圖表 2019年半導體設備廠商排名
圖表 上海微電子IC前道光刻工藝與國際先進水平差距明顯
圖表 SMEE股權結構
圖表 2015-2020年上微電專利申請情況
圖表 公司發展歷程
圖表 ATD規格產品參數
圖表 ATI規格產品參數
圖表 LDI規格產品參數
圖表 2011-2015年芯碩半導體專利申請情況
圖表 芯碩半導體核心技術
圖表 江蘇影速集成電路裝備股份有限公司股權結構
圖表 影速光刻機產品種類與性能
圖表 LP3000/8000技術參數表
圖表 Q7500D/DiAuto7技術參數表
圖表 SM300/SM100技術參數表
圖表 R2R800技術參數表
圖表 IC250/IC150技術參數表
圖表 2019-2021年無錫影速公布專利技術情況
圖表 2016-2020年無錫影速專利申請情況
圖表 企業關系圖譜
圖表 不同產品參數
圖表 BG-401A雙面曝光機主要技術特點
圖表 BG-406雙面曝光機主要技術特點
圖表 SB-402雙面曝光機主要技術特點
圖表 2015-2021年中科院四十五所專利申請情況
圖表 晶普科技光刻機產品
圖表 2013-2020年中國科學院光電技術研究所專利申請情況
圖表 三大運營商5G建設進展
圖表 2020年中國5G智能手機出貨量及占比
圖表 全球物聯網整體收入規模
圖表 全球物聯網連接數量
圖表 2020-2030年未來新能源汽車銷售量預測
圖表 2020-2024年全球自動駕駛汽車出貨量及增長率預測
圖表 國內晶圓廠商產品規劃
圖表 各大晶圓廠產線狀態
圖表 中投顧問對2021-2025年光刻機銷售量預測

光刻機,又名掩模對準曝光機、曝光系統、光刻系統等,是制造芯片的核心裝備,也是所有半導體制造設備中技術含量最高的設備。

2020年全球光刻機銷量413臺,較2019年的359臺增加54臺,漲幅為15%。根據ASML、Canon、Nikon公告,全球光刻機銷量413臺,按季度依次是95臺、95臺、97臺、126臺,分別同比增長19%、25%、8%、12%。

中國光刻機研制起于70年代后期,初期型號為接觸式或接近式光刻機,85年完成第一臺分步光刻機,此后技術一直在推進,各個時間點均有代表性成果,并未出現所謂完全放棄研發的情況,但離世界先進水平仍有加大差距。

我國擁有光刻機獨立生產技術的公司只有五家。其中,上海微電子是國內光刻機龍頭,承擔多項國家重大科技專項和02專項光刻機科研任務,2020年封裝光刻機國內市占率達到80%,全球市占率40%。

目前國內廠商積極切入FPD光刻機市場。當前6代FPD光刻機為市場主流產品。上海微電子已經實現首臺4.5代TFT投影光刻機進入用戶生產線,未來將逐步布局6代及6代以產品,切入主流廠商供應,有望打破長期被日本尼康和佳能所壟斷的FPD光刻機市場格局。

2020年8月,國務院印發《新時期促進集成電路產業和軟件產業高質量發展的若干政策》。

《若干政策》明確,凡在中國境內設立的集成電路企業,不分所有制性質,均可按規定享受相關政策。即凡是集成電路設計、制造、封裝測試、設備等企業,均可享受本政策。因此光刻機企業也是政策支持對象。

中投產業研究院發布的《2021-2025年中國光刻機行業深度調研及投資前景預測報告》共十一章。首先介紹了光刻機行業的總體概況及全球行業發展形勢,接著分析了中國光刻機行業發展政策、宏觀環境以及市場總體發展狀況。然后分別對光刻機產業的產業鏈上游相關行業、下游應用以及技術發展進行了詳盡的解析。最后,報告對光刻機行業進行了重點企業運營分析并對行業未來發展前景進行了科學的預測。

本研究報告數據主要來自于國家統計局、商務部、工信部、中國海關總署、半導體行業協會、中投產業研究院、中投產業研究院市場調查中心以及國內外重點刊物等渠道,數據權威、詳實、豐富,同時通過專業的分析預測模型,對行業核心發展指標進行科學地預測。您或貴單位若想對光刻機行業有個系統深入的了解、或者想投資光刻機行業,本報告將是您不可或缺的重要參考工具。

本報告目錄與內容系中投顧問原創,未經中投顧問書面許可及授權,拒絕任何形式的復制、轉載,謝謝!

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